狂购最先进EUV光刻机:台积电开始为1nm制程做准备

之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。

在不久前举办的线上活动中,欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中表示,在与ASML公司的合作下,更加先进的光刻机已经取得了进展。

Luc Van den hove表示,IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。

目前ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,至于设备的商业化。要等到至少2022年,而等到台积电和三星拿到设备,之前要在2023年。

与此同时,台积电在材料上的研究,也让1nm成为可能。台积电和交大联手,开发出全球最薄、厚度只有0.7纳米的超薄二维半导体材料绝缘体,可望借此进一步开发出2纳米甚至1纳米的电晶体通道。

据悉,台积电正为2nm之后的先进制程持续觅地,包含桥头科、路竹科,均在台积电评估中长期投资设厂的考量之列。

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